ASML上周已經(jīng)聲明，高端DUV光刻機可以出口，而這也會讓他們加快處理相應的訂單。
所謂浸沒式光刻機，屬于193nm（光源）光刻機（分為干式和浸沒式），可以被用于16nm至7nm先進制程芯片的制造，但是目前也有被業(yè)界廣泛應用在45nm及以下的成熟制程當中。
ASML公司官網(wǎng)信息顯示，該公司主流的DUV光刻機產(chǎn)品共有三款設備：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產(chǎn)品。
理論上NXT:1980Di依然可以達到7nm，只是步驟更為復雜，成本更高，良率可能也會有損失，晶圓廠用這一臺光刻機，大多是生產(chǎn)14nm及以上工藝的芯片，很少去生產(chǎn)14nm以下的工藝，因為良率低，成本高，沒什么競爭力。
之前，該公司2022年其凈銷售額為212億歐元，毛利率為50.5%，2022年底未交付訂單創(chuàng)下歷史新高，達404億歐元。當年總共銷售317臺新光刻機，較前一年增長31臺，此外還出貨了28臺二手光刻機。
對于今年的表現(xiàn)，ASML表示，將會加快對一些訂單的處理，特別是高端DUV光刻機系列，以此來保證公司業(yè)績強勁增長。
（舉報）