全球科技巨頭 Intel 近日宣布，其位于俄勒岡州的晶圓廠收到了來自 ASML 的全球首臺高數(shù)值孔徑（NA）極紫外（EUV）光刻機，型號為 Twinscan EXE:5000。此舉標志著 Intel 在推動摩爾定律方面邁出了關鍵一步。

Intel 于 2018 年預訂了這款新一代光刻機，它將應用于計劃于今年量產(chǎn)的 Intel 18A 制造工藝，即 1.8nm 級別。

此外，Intel 還訂購了改進型的 Twinscan EXE:5200，預計將在 2025-2026 年用于更先進的工藝。

據(jù)報道，ASML 將在 2024 年生產(chǎn)最多 10 臺新一代高 NA EUV 光刻機，其中 Intel 預訂了多達 6 臺。到 2027-2028 年，ASML 的年產(chǎn)量預計將增加到約 20 臺。

新光刻機的成本估計至少為 3 億美元，甚至可能高達或超過 4 億美元，接近人民幣 30 億元，而現(xiàn)有的低 NA EUV 光刻機成本約為 2 億美元。

（舉報）