ASML上周已經(jīng)聲明，高端DUV光刻機(jī)可以出口這也會(huì)讓他們加快處理相應(yīng)的訂單。所謂浸沒式光刻機(jī)，屬于193nm光刻機(jī)，可以被用于16nm至7nm先進(jìn)制程芯片的制造，但是目前也有被業(yè)界廣泛應(yīng)用在45nm及以下的成熟制程當(dāng)中。對(duì)于今年的表現(xiàn)，ASML表示，將會(huì)加快對(duì)一些訂單的處理，特別是高端DUV光刻機(jī)系列，以此來保證公司業(yè)績(jī)強(qiáng)勁增長(zhǎng)。...

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